盛美上海推出Ultra ECDP电化学去镀设备

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  盛美上海宣布推出首款专为宽禁带化合物半导体制造而设计的Ultra ECDP电化学去镀设备。该新设备专为在晶圆图形区域外进行电化学晶圆级金(Au)蚀刻而设计。

(文章来源:科创板日报)


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